Difference between revisions of "Vacuum Deposition Recipes"

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{{Recipe Table Explanation}}
|-bgcolor="#D0E7FF"
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! colspan=18 height=45 width=1575|<div style="font-size: 150%;">Vacuum Deposition Recipes</div>
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! colspan="16" width="1675" height="45" |<div style="font-size: 150%;">Vacuum Deposition Recipes</div>
| <!-- INTENTIONALLY LEFT BLANK --> <br>  
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|- bgcolor="#d0e7ff"
! bgcolor="#D0E7FF" align="center" colspan="4" | '''E-Beam Evaporation'''  
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|<!-- INTENTIONALLY LEFT BLANK --><br>
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+
! colspan="4" bgcolor="#d0e7ff" align="center" |'''[[E-Beam Evaporation Recipes|E-Beam Evaporation]]'''
! bgcolor="#D0E7FF" align="center" colspan="2" | '''Thermal Evaporation'''  
+
! colspan="4" |'''[[Sputtering Recipes|Sputtering]]'''
! bgcolor="#D0E7FF" align="center" colspan="3" | '''Plasma Enhanced Chemical<br>Vapor Deposition (PECVD)'''  
+
! colspan="2" bgcolor="#d0e7ff" align="center" |'''[[Thermal Evaporation Recipes|Thermal Evaporation]]'''
! width="90" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | '''Atomic Layer Deposition'''  
+
! colspan="3" bgcolor="#d0e7ff" align="center" |'''[[PECVD Recipes|Plasma Enhanced Chemical<br>Vapor Deposition (PECVD)]]'''
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+
! width="90" bgcolor="#d0e7ff" align="center" |'''[[Atomic Layer Deposition Recipes|Atomic Layer Deposition]]'''
! width="100" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | '''Molecular Vapor Deposition'''
+
! width="80" bgcolor="#d0e7ff" align="center" |'''[[Molecular Vapor Deposition Recipes|Molecular Vapor Deposition]]'''
 
|-
 
|-
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| width="65" | [[E-Beam 1 (Sharon)]]  
+
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| width="65" | [[E-Beam 2 (Custom)]]  
+
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[E-Beam Evaporation Recipes#E-Beam_2_.28Custom.29|E-Beam 2 (Custom)]]
| width="65" | [[E-Beam 3 (Temescal)]]  
+
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[E-Beam Evaporation Recipes#E-Beam_3_.28Temescal.29|E-Beam 3 (Temescal)]]
| width="65" | [[E-Beam 4 (CHA)]]  
+
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[E-Beam Evaporation Recipes#E-Beam_4_.28CHA.29|E-Beam 4 (CHA)]]
| width="65" | [[Sputter 1 (Custom)]]  
+
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[Sputtering_Recipes#Sputter_3_.28AJA_ATC_2000-F.29|Sputter 3<br>(AJA ATC 2000-F)]]
| width="85" | [[Sputter 2 (SFI Endeavor)|Sputter 2<br>(SFI Endeavor)]]  
+
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[Sputtering_Recipes#Sputter_4_.28AJA_ATC_2200-V.29|Sputter 4<br>(AJA ATC 2200-V)]]
| width="65" | [[Sputter 3]]  
+
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[https://wiki.nanotech.ucsb.edu/w/index.php?title=Sputtering_Recipes#Sputter_5_.28AJA_ATC_2200-V.29 Sputter 5 (AJA ATC 2200-V)]
| width="65" | [[Sputter 4]]
+
| width="55" bgcolor="#daf1ff" |[[Sputtering_Recipes#Ion_Beam_Deposition_.28Veeco_NEXUS.29|Ion Beam<br>Deposition (Veeco Nexus)]]
| width="85" | [[Sputter 5 (Lesker AXXIS)]]  
+
| width="45" bgcolor="#daf1ff" |[[Thermal Evaporation Recipes#Thermal_Evap_1|Thermal<br>Evap 1]]
| width="65" | [[Thermal 1]]  
+
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[Thermal Evaporation Recipes#Thermal_Evap_2_.28Solder.29|Thermal Evap 2 (Solder)]]
| width="65" | [[Thermal 2]]  
+
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[PECVD Recipes#PECVD_1_.28PlasmaTherm_790.29|PECVD 1<br>(PlasmaTherm 790)]]
| width="115" | [[PECVD 1 (PlasmaTherm 790)|PECVD 1<br>(PlasmaTherm 790)]]  
+
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[PECVD Recipes#PECVD_2_.28Advanced_Vacuum.29|PECVD 2<br>(Advanced Vacuum)]]
| width="115" | [[PECVD 2 (Advanced Vacuum)|PECVD 2<br>(Advanced Vacuum)]]  
+
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[PECVD_Recipes#ICP-PECVD_.28Unaxis_VLR.29|Unaxis VLR ICP-PECVD]]
| width="75" | [[Unaxis VLR ICP-PECVD]]  
+
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[Atomic_Layer_Deposition_Recipes|Atomic Layer Deposition (Oxford FlexAL)]]
|  
+
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[Molecular Vapor Deposition|Molecular Vapor Deposition (Tool)]]
|
 
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+
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+
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+
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+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
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+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
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+
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+
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+
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+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
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+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="EEFFFF" |
 
 
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! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | Al  
+
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Al
| <br>
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|{{Al/E1}}
| <br>  
+
|<br>
| <br>
+
|{{Al/E3}}
| <br>
+
|{{Al/E4}}
| <br>
+
|[[Sputtering Recipes|A]]
| <br>
+
|{{rl|Sputtering Recipes|Al Deposition (Sputter 4)}}
| <br>  
+
|<br>
| <br>  
+
|<br>[[Sputtering_Recipes#Ion_Beam_Deposition_.28Veeco_NEXUS.29|A]]
| <br>
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|[[Thermal Evaporation Recipes|A]]
| <br>
+
|[[Thermal Evaporation Recipes|A]]
| <br>
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|<br>
| <br>
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|<br>
| <br>  
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|<br>
| <br>  
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|<br>
| <br>  
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|<br>
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| <br>
 
 
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+
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+
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+
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+
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+
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+
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |AlN
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|[[Sputtering Recipes|A]]
| <br>
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|[[Sputtering Recipes|A]]
| <br>  
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|<br>
| <br>
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|[[Sputtering_Recipes#Ion_Beam_Deposition_.28Veeco_NEXUS.29|A]]
| <br>  
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|<br>
| <br>  
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|<br>
| <br>  
+
|<br>
| <br>  
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|<br>
| <br>  
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|<br>
| <br>
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|{{rl|Atomic Layer Deposition Recipes|AlN deposition (ALD CHAMBER 3)}}
| <br>
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|<br>
| <br>
 
| <br>
 
 
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Au
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+
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+
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+
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+
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+
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+
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+
| bgcolor="#eeffff" |[[Thermal Evaporation Recipes|A]]
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+
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+
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |B
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+
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+
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+
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+
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| <br>  
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| <br>  
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| <br>  
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| bgcolor="EEFFFF" |  
 
 
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|{{Al/E1}}
| <br>  
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|<br>
| <br>
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|{{Al/E4}}
| <br>
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|[https://wiki.nanotech.ucsb.edu/w/index.php?title=Sputtering_Recipes#Sputter_3_.28AJA_ATC_2000-F.29 R]
| <br>  
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| <br>  
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|[[Thermal Evaporation Recipes|A]]
| <br>
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|[[Thermal Evaporation Recipes|A]]
| <br>
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+
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+
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+
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+
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Fe
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|{{Al/E1}}
| <br>  
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|<br>
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| <br>
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|{{Al/E4}}
| <br>
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|[[Sputtering Recipes|R]]
| <br>
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+
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+
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| bgcolor="#eeffff" |[[Sputtering Recipes|A]]
| bgcolor="EEFFFF" |  
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| bgcolor="EEFFFF" |
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| bgcolor="EEFFFF" |
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
 
| bgcolor="EEFFFF" |  
 
 
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |GeO<sub>2</sub>
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! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | ITO
 
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|{{Al/E2}}
 
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|-
! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | Mo
+
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Gd
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+
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Hf
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| bgcolor="#eeffff" |{{Al/E1}}
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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|-
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |HfO<sub>2</sub>
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|<br>
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|<br>
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|<br>
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|<br>
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|[[Sputtering Recipes|A]]
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|[[Sputtering Recipes|A]]
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|<br>
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|<br>
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|<br>
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|<br>
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|<br>
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|<br>
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|<br>
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|{{rl|Atomic Layer Deposition Recipes|HfO2 deposition (ALD CHAMBER 3)}}
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|<br>
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|-
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |In
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Ir
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|{{Al/E1}}
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|<br>
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|<br>
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|-
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |ITO
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |{{rl|E-Beam Evaporation Recipes|E-Beam 2 (Custom)|ITO deposition (E-Beam 2)}}
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
 +
| bgcolor="#eeffff" |[[Sputtering Recipes|A]]
 +
| bgcolor="#eeffff" |[[Sputtering Recipes|A]]
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
 
|-
 
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! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | Bn
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |MgF2
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|[[Sputtering Recipes|A]]
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|[[Sputtering Recipes|A]]
 
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|-
! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | Ni
+
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |MgO
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| bgcolor="EEFFFF" |
 
| bgcolor="EEFFFF" |
 
| bgcolor="EEFFFF" |
 
| bgcolor="EEFFFF" |
 
| bgcolor="EEFFFF" |
 
|-
 
! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | Pd
 
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|{{Al/E2}}
 
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Mo
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| bgcolor="#eeffff" |{{Al/E1}}
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |[[Sputtering Recipes|R]]
 +
| bgcolor="#eeffff" |[[Sputtering Recipes|A]]
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Nb
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|{{Al/E1}}
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|<br>
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|<br>
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|[[Sputtering Recipes|R]]
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Nd
 
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|[[Sputtering Recipes|A]]
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|<br>
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|<br>
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|<br>
 
|-
 
|-
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+
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Ni
| bgcolor="EEFFFF" |
+
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+
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+
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| bgcolor="EEFFFF" |
+
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| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |{{rl|Sputtering Recipes|Sputter 3 (AJA ATC 2000-F)}}
| bgcolor="EEFFFF" |
+
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+
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+
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+
| bgcolor="#eeffff" |[[Thermal Evaporation Recipes|A]]
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+
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+
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|-
 
|-
! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | Ru
+
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |NiCr
|
+
|{{Al/E1}}
|
 
|
 
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 +
|{{Al/E4}}
 
|
 
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|
 
|
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|-
 
|-
! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | Si
+
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |NiFe
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+
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| bgcolor="EEFFFF" |
+
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| bgcolor="EEFFFF" |
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| bgcolor="#eeffff" |
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| bgcolor="#eeffff" |
| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |
| bgcolor="EEFFFF" |
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| bgcolor="#eeffff" |
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| bgcolor="#eeffff" |
| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |
| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |
| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|-
| bgcolor="EEFFFF" |
+
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Pd
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|{{Al/E1}}
 +
|<br>
 +
|{{Al/E3}}
 +
|{{Al/E4}}
 +
|<br>
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|<br>
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|<br>
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|<br>
 +
|[[Thermal Evaporation Recipes|A]]
 +
|[[Thermal Evaporation Recipes|A]]
 +
|<br>
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|<br>
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|<br>
 +
|<br>
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|<br>
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|-
 +
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Pt
 +
| bgcolor="#eeffff" |{{Al/E1}}
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>
 +
| bgcolor="#eeffff" |{{Al/E3}}
 +
| bgcolor="#eeffff" |{{Al/E4}}
 +
| bgcolor="#eeffff" |[[Sputtering Recipes|A]]
 +
| bgcolor="#eeffff" |{{rl|Sputtering Recipes|Sputter 4 (AJA ATC 2200-V)}}
 +
| bcolor="EEFFFF" |{{rl|Sputtering Recipes|Sputter 5 (AJA ATC 2200-V)}}
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |{{rl|Atomic Layer Deposition Recipes|Pt deposition (ALD CHAMBER 1)}}
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>
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|-
 +
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Ru
 +
|{{Al/E1}}
 +
|<br>
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|<br>
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|{{Al/E4}}
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|<br>
 +
|[[Sputtering Recipes#Ru Deposition .28Sputter 4.29|R]]
 +
|<br>
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|<br>
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|<br>
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|<br>
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|<br>
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|<br>
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|<br>
 +
|{{rl|Atomic Layer Deposition Recipes|Ru deposition (ALD CHAMBER 1)}}
 +
|<br>
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|-
 +
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Si
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>
 +
| bgcolor="#eeffff" |{{Al/E2}}
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>
 +
| bgcolor="#eeffff" |[[Sputtering Recipes|R]]
 +
| bgcolor="#eeffff" |[[Sputtering Recipes|A]]
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>[[Sputtering_Recipes#Ion_Beam_Deposition_.28Veeco_NEXUS.29|A]]
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>
 +
| bgcolor="#eeffff" |[https://wiki.nanotech.ucsb.edu/w/index.php?title=PECVD_Recipes#Amorphous-Si_deposition_.28PECVD_.232.29 R]
 +
| bgcolor="#eeffff" |
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>
 +
| bgcolor="#eeffff" |<br>
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|-
 +
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |SiN
 +
|<br>
 +
|<br>
 +
|<br>
 +
|<br>
 +
|{{rl|Sputtering Recipes|SiN deposition (Sputter 3)}}
 +
|[[Sputtering Recipes|A]]
 +
|<br>
 +
|[[Sputtering_Recipes#Si3N4_deposition_.28IBD.29|R]]
 +
|<br>
 +
|<br>
 +
|{{rl|PECVD Recipes|SiN deposition (PECVD #1)}}
 +
|{{rl|PECVD Recipes|SiN deposition (PECVD #2)}}
 +
|{{rl|PECVD Recipes|SiN 250C deposition (Unaxis VLR)}}
 +
|<br>
 +
|<br>
 
|-
 
|-
! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | SiN  
+
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |SiN - Low Stress
|
 
|
 
|
 
|
 
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|
 
|
 
|
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|
 
|
 
|
 
|
 +
|{{rl|PECVD Recipes|Low-Stress SiN - LS-SiN (PECVD#1)}}
 +
|{{rl|PECVD Recipes|Low-Stress SiN deposition (PECVD #2)}}
 +
|{{rl|PECVD Recipes|SiN LS 250C Deposition (Unaxis VLR)}}
 
|
 
|
 
|
 
|
 
|-
 
|-
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |SiO<sub>2</sub>
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+
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| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |{{Al/E2}}
| bgcolor="EEFFFF" |
+
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+
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+
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| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |[[Sputtering Recipes|A]]
| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |[[Sputtering Recipes|A]]
| bgcolor="EEFFFF" |
+
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| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
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| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |{{rl|PECVD Recipes|SiO2 deposition (PECVD #2)}}
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+
| bgcolor="#eeffff" |{{rl|PECVD Recipes|SiO2 LDR 250C Deposition (Unaxis VLR)}}
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+
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+
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| bgcolor="EEFFFF" |
+
|-
| bgcolor="EEFFFF" |
+
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |SiO<sub>x</sub>N<sub>y</sub>
 +
|<br>
 +
|<br>
 +
|<br>
 +
|<br>
 +
|<br>
 +
|<br>
 +
|<br>
 +
|[https://wiki.nanotech.ucsb.edu/w/index.php?title=Sputtering_Recipes#SiOxNy_deposition_.28IBD.29 R]
 +
|<br>
 +
|<br>
 +
|[[PECVD_Recipes#PECVD_1_.28PlasmaTherm_790.29|R]]
 +
|<br>
 +
|<br>
 +
|<br>
 +
|<br>
 
|-
 
|-
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+
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Sn
|
+
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|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |[[Thermal Evaporation Recipes|A]]
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
 
|
 
 
|-
 
|-
! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | Sn
+
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |SrF<sub>2</sub>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|{{Al/E2}}
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
 
| bgcolor="EEFFFF" |
 
 
|-
 
|-
! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | SrF<sub>2</sub>  
+
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Ta
|
+
| bgcolor="#eeffff" |{{Al/E1}}
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
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|
+
| bgcolor="#eeffff" |[[Sputtering Recipes|A]]
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>[[Sputtering_Recipes#Ion_Beam_Deposition_.28Veeco_NEXUS.29|A]]
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
 
|
 
 
|-
 
|-
! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | Ta  
+
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|{{Al/E2}}
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
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|[[Sputtering_Recipes#Ta2O5_deposition_.28IBD.29|R]]
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
 
| bgcolor="EEFFFF" |
 
 
|-
 
|-
! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub>
+
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Ti
|
+
| bgcolor="#eeffff" |{{Al/E1}}
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |{{Al/E3}}
|
+
| bgcolor="#eeffff" |{{Al/E4}}
|
+
| bgcolor="#eeffff" |{{rl|Sputtering Recipes|Sputter 3 (AJA ATC 2000-F)}}
|
+
| bgcolor="#eeffff" |{{rl|Sputtering Recipes|Ti-Au Deposition (Sputter 4)}}
|
+
| bgcolor="#eeffff" |{{rl|Sputtering Recipes|Sputter 5 (AJA ATC 2200-V)}}
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>[[Sputtering_Recipes#Ion_Beam_Deposition_.28Veeco_NEXUS.29|A]]
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
|
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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|
 
 
|-
 
|-
! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | Ti
+
! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |TiN
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
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|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
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|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
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|<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
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|[https://wiki.nanotech.ucsb.edu/w/index.php?title=Sputtering_Recipes#Sputter_4_.28AJA_ATC_2200-V.29 R]
| bgcolor="EEFFFF" |
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|<br>
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|[[Sputtering_Recipes#Ion_Beam_Deposition_.28Veeco_NEXUS.29|A]]
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|{{rl|Atomic Layer Deposition Recipes|TiN deposition (ALD CHAMBER 3)}}
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! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | TiN
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |TiW
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| bgcolor="#eeffff" |{{Al/E1}}
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| bgcolor="#eeffff" |[[Sputtering Recipes|A]]
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| bgcolor="#eeffff" |{{rl|Sputtering Recipes|W-TiW Deposition (Sputter 4)}}
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! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | TiO<sub>2</sub>  
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |TiO<sub>2</sub>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |{{Al/E2}}
| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
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| bgcolor="#eeffff" |[[Sputtering Recipes|A]]
| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |{{rl|Sputtering Recipes|Sputter 4 (AJA ATC 2200-V)}}
| bgcolor="EEFFFF" |
+
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| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |[[Sputtering_Recipes#TiO2_deposition_.28IBD.29|R]]
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |{{rl|Atomic Layer Deposition Recipes|TiO2 deposition (ALD CHAMBER 3)}}
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+
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| bgcolor="EEFFFF" |
 
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|-
 
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! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | V  
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |V
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|[[Sputtering Recipes|A]]
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|[[Sputtering Recipes|A]]
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! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | W  
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |W
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| bgcolor="EEFFFF" |
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| bgcolor="EEFFFF" |
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| bgcolor="#eeffff" |[[Sputtering Recipes|A]]
| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |{{rl|Sputtering Recipes|W deposition (Sputter 4)}}
| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
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! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | Zn  
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Zn
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|[[Thermal Evaporation Recipes|A]]
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|[[Thermal Evaporation Recipes|A]]
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! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | ZnO<sub>2</sub>
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |ZnO
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+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
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|-
 
|-
! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | Zr  
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |Zr
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+
|{{Al/E1}}
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|{{Al/E4}}
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|[[Sputtering Recipes|A]]
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|[[Sputtering Recipes|A]]
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|-
! width="75" bgcolor="#D0E7FF" align="center" | ZrO<sub>2</sub>  
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! bgcolor="#d0e7ff" align="center" |ZrO<sub>2</sub>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
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| bgcolor="#eeffff" |<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
+
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| bgcolor="EEFFFF" |
+
| bgcolor="#eeffff" |<br>
| bgcolor="EEFFFF" |
 
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|-
 
|-
 +
! width="20" bgcolor="#d0e7ff" align="center" |'''Material'''
 +
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[E-Beam Evaporation Recipes#E-Beam_1_.28Sharon.29|E-Beam 1 (Sharon)]]
 +
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 +
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[E-Beam Evaporation Recipes#E-Beam_3_.28Temescal.29|E-Beam 3 (Temescal)]]
 +
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[E-Beam Evaporation Recipes#E-Beam_4_.28CHA.29|E-Beam 4 (CHA)]]
 +
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[Sputtering Recipes#Sputter_3_.28ATC_2000-F.29|Sputter 3<br>(ATC 2000-F)]]
 +
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[Sputtering_Recipes#Sputter_4_.28AJA_ATC_2200-V.29|Sputter 4<br>(ATC 2200-V)]]
 +
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[Sputtering Recipes|Sputter 5  (ATC 2200-V)]]
 +
| width="55" bgcolor="#daf1ff" |[[Sputtering_Recipes#Ion_Beam_Deposition_.28Veeco_NEXUS.29|Ion Beam<br>Deposition (Veeco Nexus)]]
 +
| width="45" bgcolor="#daf1ff" |[[Thermal Evaporation Recipes#Thermal_Evap_1|Thermal<br>Evap 1]]
 +
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[Thermal Evaporation Recipes#Thermal_Evap_2_.28Solder.29|Thermal Evap 2 (Solder)]]
 +
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[PECVD Recipes#PECVD_1_.28PlasmaTherm_790.29|PECVD 1<br>(PlasmaTherm 790)]]
 +
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[PECVD Recipes#PECVD_2_.28Advanced_Vacuum.29|PECVD 2<br>(Advanced Vacuum)]]
 +
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[PECVD_Recipes#ICP-PECVD_.28Unaxis_VLR.29|Unaxis VLR ICP-PECVD]]
 +
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[Atomic_Layer_Deposition_Recipes|Atomic Layer Deposition (Oxford FlexAl)]]
 +
| width="65" bgcolor="#daf1ff" |[[Molecular Vapor Deposition|Molecular Vapor Deposition (Tool)]]
 
|}
 
|}
 +
 +
[[Category:Processing]]

Latest revision as of 10:34, 27 September 2021

  • R = Recipe is available. Clicking this link will take you to the recipe.
  • A = Material is available for use, but no recipes are provided.
Vacuum Deposition Recipes

E-Beam Evaporation Sputtering Thermal Evaporation Plasma Enhanced Chemical
Vapor Deposition (PECVD)
Atomic Layer Deposition Molecular Vapor Deposition
Material E-Beam 1 (Sharon) E-Beam 2 (Custom) E-Beam 3 (Temescal) E-Beam 4 (CHA) Sputter 3
(AJA ATC 2000-F)
Sputter 4
(AJA ATC 2200-V)
Sputter 5 (AJA ATC 2200-V) Ion Beam
Deposition (Veeco Nexus)
Thermal
Evap 1
Thermal Evap 2 (Solder) PECVD 1
(PlasmaTherm 790)
PECVD 2
(Advanced Vacuum)
Unaxis VLR ICP-PECVD Atomic Layer Deposition (Oxford FlexAL) Molecular Vapor Deposition (Tool)
Ag A
A A A A








Al A
A A A R

A
A A




Al2O3 A A

A R
R




R
AlN



A A
A




R
Au A
A A A R

A A




B














C R
CeO2
R












Co A

A R









Cr A

A R


A A




Cu A


R A








Fe A

A R









Ge A
A A A A








GeO2 A
Gd A

A










Hf A













HfO2



A A






R
In








A




Ir A













ITO
R

A A
A






MgF2 A A
MgO A
Mo A


R A








Nb A



R








Nd



A








Ni A
A A R


A A




NiCr A A
NiFe A A A
Pd A
A A



A A




Pt A
A A A R R





R
Ru A

A
R






R
Si
A

R A

A



R

SiN



R A
R

R R R

SiN - Low Stress R R R
SiO2 A A

R A A R

R R R R
SiOxNy






R

R



Sn








A




SrF2
A












Ta A


R A

A







Ta2O5


A


R






Ti A
A A R R R
A







TiN




R
A




R
TiW A


A R








TiO2
A

A R
R




R
V



A A








W A


A R








Zn







A A




ZnO












R
Zr A

A A A








ZrO2












R
Material E-Beam 1 (Sharon) E-Beam 2 (Custom) E-Beam 3 (Temescal) E-Beam 4 (CHA) Sputter 3
(ATC 2000-F)
Sputter 4
(ATC 2200-V)
Sputter 5 (ATC 2200-V) Ion Beam
Deposition (Veeco Nexus)
Thermal
Evap 1
Thermal Evap 2 (Solder) PECVD 1
(PlasmaTherm 790)
PECVD 2
(Advanced Vacuum)
Unaxis VLR ICP-PECVD Atomic Layer Deposition (Oxford FlexAl) Molecular Vapor Deposition (Tool)