Dry Etching Recipes
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Dry Etching Recipes
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RIE Etching | ICP Etching | Oxygen Plasma Systems | Other Dry Etchers | |||||||||||
Material | RIE 1 (Custom) |
RIE 2 (MRC) |
RIE 3 (MRC) |
RIE 5 (PlasmaTherm) |
Si Deep RIE (PlasmaTherm/Bosch Etch) |
ICP Etch 1 (Panasonic E626I) |
ICP Etch 2 (Panasonic E640) |
ICP-Etch (Unaxis VLR) |
Ashers (Technics PEII) |
Plasma Clean (Gasonics 2000) |
UV Ozone Reactor | Plasma Activation (EVG 810) |
XeF2 Etch (Xetch) | |
Al | R | R | ||||||||||||
Ti | R | A | ||||||||||||
Cr | A | R | A | |||||||||||
Ge | ||||||||||||||
Ag | ||||||||||||||
Ru | ||||||||||||||
Mo | ||||||||||||||
Ta | ||||||||||||||
W-TiW | R | A | ||||||||||||
Al2O3 | ||||||||||||||
HfO2 | ||||||||||||||
ITo | ||||||||||||||
SiO2 | R | R | ||||||||||||
SiN | R | R | ||||||||||||
SiOxNy | ||||||||||||||
Ta2O5 | ||||||||||||||
TiO2 | ||||||||||||||
TiN | ||||||||||||||
ZnO2 | ||||||||||||||
ZrO2 | ||||||||||||||
GaAs | R | R | R | |||||||||||
AlGaAs | R | R | R | |||||||||||
InGaAlAs | R | R | ||||||||||||
InGaAsP | R | |||||||||||||
InP | R | R | ||||||||||||
GaN | R | R | R | |||||||||||
AlGaN | ||||||||||||||
AlN | ||||||||||||||
GaN | ||||||||||||||
AlGaN | ||||||||||||||
AlN | ||||||||||||||
GaSb | ||||||||||||||
CdZnTe | R | |||||||||||||
ZnSe | ||||||||||||||
Si | R | R | ||||||||||||
SiC | ||||||||||||||
Sapphire | ||||||||||||||
Material | RIE 1 (Custom) |
RIE 2 (MRC) |
RIE 3 (MRC) |
RIE 5 (PlasmaTherm) |
Si Deep RIE (PlasmaTherm/Bosch Etch) |
ICP Etch 1 (Panasonic E626I) |
ICP Etch 2 (Panasonic E640) |
ICP-Etch (Unaxis VLR) |
Ashers (Technics PEII) |
Plasma Clean (Gasonics 2000) |
UV Ozone Reactor | Plasma Activation (EVG 810) |
XeF2 Etch (Xetch) |